真空電鍍是一種物理沉積現(xiàn)象。即在真空狀態(tài)下注入氬氣，氬氣撞擊靶材，靶材分離成分子被導(dǎo)電的貨品吸附形成一層均勻光滑的表面層。

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對于傳統(tǒng)的濕發(fā)電鍍，真空電鍍具有以下優(yōu)點(diǎn)：
1.沉積材料廣泛
可沉積鋁、鈦、鋯等濕法電鍍無法沉積的低電位金屬，通以反應(yīng)氣體和合金靶材更是可 以沉積從合金到陶瓷甚至是金剛石的涂層，而且可以根據(jù)需要設(shè)計(jì)涂層體系。
2.節(jié)約金屬材料
由于真空涂層的附著力、致密度、硬度、耐腐蝕性能等相當(dāng)優(yōu)良，沉積的鍍層可以遠(yuǎn)遠(yuǎn) 小于常規(guī)濕法電鍍鍍層，達(dá)到節(jié)約的目的.
3.無環(huán)境污染
由于所有鍍層材料都是在真空環(huán)境下通過等離子體沉積在工件表面，沒有溶液污染，所以 對環(huán)境的危害相當(dāng)小.
但是由于獲得真空和等離子體的儀器設(shè)備精密昂貴，而且沉積工藝還掌握在少數(shù)技術(shù)人員手中，沒有大量被推廣，其投資和日常生產(chǎn)維護(hù)費(fèi)用昂貴，但是隨著社會的不斷進(jìn)步，真空電鍍的優(yōu)勢會越來越明顯，在 某些行業(yè)取代傳統(tǒng)的濕法電鍍是大勢所趨！