真空電鍍是一種物理沉積現(xiàn)象。即在真空狀態(tài)下注入氬氣，氬氣撞擊靶材，靶材分離成分子被導電的貨品吸附形成一層均勻光滑的表面層。

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1、 真空鍍膜所獲得的金屬膜層很薄(一般為0.01~0.1um),能夠嚴格復制出啤件表面的形狀
2、工作電壓不是很高(200V)﹐操作方便﹐但設(shè)備較昂貴﹒
3、蒸鍍鍋瓶容積小﹐電鍍件出數(shù)少﹐生產(chǎn)效率較低﹒
4、只限于比鎢絲熔點低的金屬(如鋁﹑銀﹑銅﹑金等)鍍飾﹒
5、對鍍件表面質(zhì)量要求較高﹐通常電鍍前需打底油來彌補工件表面缺陷﹒
6、真空鍍膜可以鍍多種塑料如﹕ABS﹑PE﹑PP﹑PVC﹑PA﹑PC﹑PMMA等﹒