真空電鍍是一種物理沉積現(xiàn)象，即在真空狀態(tài)下注入氬氣，氬氣撞擊靶材，靶材分離成分子被導電的貨品吸附形成一層均勻光滑的表面層。
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如今，在許多電鍍廠中，與傳統(tǒng)的電鍍工藝相比，真空電鍍加工技術具有三個主要優(yōu)點：
1、廣泛的累積數(shù)據(jù)
它可以累積鋁，鈦，鋯等低電位金屬，這些金屬不能通過濕法電鍍來累積，并且可以通過反應氣體和合金靶累積從合金到陶瓷甚至鉆石的涂層， 需要計劃涂層系統(tǒng)。
2、節(jié)省金屬材料
由于真空涂層的附著力，密度，硬度，耐蝕性等都非常好，因此所沉積的真空電鍍涂層可以比傳統(tǒng)的濕式電鍍涂層小得多，從而達到了節(jié)約的目的。
3、無環(huán)境污染
目前國家大力提倡生產(chǎn)環(huán)境保護，因為所有涂層材料均在真空環(huán)境中通過等離子體沉積在工件表面，因此沒有溶液污染，因此對環(huán)境的破壞是適當?shù)男 ?br>但是，由于用于獲得真空和等離子的儀器和設備精細而珍貴，并且累積技術仍在少數(shù)技術人員的手中，因此提倡的技術人員并不多，因此他們的投資和日常的生產(chǎn)和維護成本昂貴。
但是，隨著社會的不斷進步，真空電鍍加工技術的優(yōu)勢將越來越明顯，在某些職業(yè)中取代傳統(tǒng)的濕法電鍍已成為大勢所趨。
